삼성전자-존스홉킨스대, 차세대 펠티어 냉각 기술로 2025 R&D 100 어워드 수상… 데이터 센터 효율 혁신 기대

삼성전자와 존스홉킨스대학교 응용물리학연구소(Johns Hopkins APL)의 괄목할 만한 산학 협력 연구 결과가 미국에서 국제적인 인정을 받았다. 2025년 R&D 월드 매거진(R&D World Magazine)이 주관하는 ‘2025 R&D 100 어워드(R&D 100 Awards) ’의 100대 혁신 기술로 선정됨으로써, 이 기술이 데이터 센터 냉각 분야에 혁신을 가져올 잠재력을 확인받았다.

본 프로젝트는 2020년 1월 15일에 시작되었으며, 펠티어 냉각 기술의 효율성을 극대화하기 위한 연구를 목표로 진행되었다. 기존 펠티어 냉각 시스템의 낮은 에너지 효율과 높은 운영 비용 문제를 해결하기 위해, 존스홉킨스대학교의 첨단 재료 공학 및 열역학 전문 지식과 삼성전자의 반도체 부품 설계 및 제조 기술을 결합하여 새로운 펠티어 냉각 모듈 개발에 성공했다.

특히, 이 기술은 펠티어 전극에 차세대 전도성 물질을 적용하여 냉각 성능을 40% 향상시켰으며, 펠티어 모듈의 크기를 30% 축소하여 공간 활용도를 높였다. 또한, 냉각 시스템의 안정성을 확보하기 위해 고성능 제어 알고리즘을 개발하여 에너지 소비를 최적화했다.

이번 수상은 데이터 센터의 에너지 소비를 줄이고 탄소 배출량을 감축하는 데 크게 기여할 것으로 예상된다. 데이터 센터는 전 세계적으로 엄청난 양의 전력을 소비하는 주요 시설이며, 펠티어 냉각 기술의 효율적인 적용은 데이터 센터 운영 비용을 절감하고 친환경적인 데이터 센터 구축에 필수적인 요소가 될 것이다.

삼성전자 측은 “본 기술은 데이터 센터뿐만 아니라, 고성능 컴퓨팅, 전력 전자, 의료 기기 등 다양한 분야에서 활용될 수 있을 것으로 기대한다”고 밝혔다. 또한, 존스홉킨스대학교 응용물리학연구소는 “본 연구는 산학 협력의 성공적인 사례이자, 미래 기술 혁신의 중요한 발판이 될 것이다”라고 덧붙였다.

삼성전자는 2025년 8월 31일에 발표한 보도자료에 따르면, 2025년 9월 15일에 진행되는 R&D 월드 매거진의 ‘2025 R&D 100 어워드 시상식’에서 펠티어 냉각 기술로 수상할 것이라고 발표했다.

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